航天材料生產(chǎn)用水旭能18MΩ超純水設(shè)備性能穩(wěn)定安全

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公司基本資料信息

產(chǎn)品詳細(xì)說明

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超純水是指純度極高的水，其雜質(zhì)含量（包括離子、有機物、顆粒物、微生物等）被降低到極低水平，是目前人類技術(shù)能制備的純度**的水類別。

超純水的純度通常以電阻率、總有機碳（TOC）、顆粒數(shù)、微生物含量等指標(biāo)衡量，國際上有不同標(biāo)準(zhǔn)（如 ASTM、ISO、中國藥典等），核心指標(biāo)參考如下：

電阻率

這是超純水*核心的指標(biāo)。水的電阻率會隨水中離子濃度降低而升高，理論上純水在 25℃時的電阻率極限值為18.2 MΩ·cm。

超純水的電阻率通常要求≥18.0 MΩ?cm（25℃），這個數(shù)值越接近 18.2，純度越高。
總有機碳（TOC）

衡量水中有機污染物的總量，超純水要求 TOC ≤ 5 ppb（部分嚴(yán)苛場景要求≤1 ppb）。
顆粒與微生物
- 顆粒物：粒徑≥0.2 μm 的顆粒數(shù)≤1 個 /mL；
- 微生物：菌落數(shù)≤1 CFU/mL（甚至達到無菌*別）。
離子雜質(zhì)

常見的陽離子（Na?、K?、Ca2?、Mg2?等）和陰離子（Cl?、SO?2?、NO??等）的含量均需低于 ppb *（十億分之一）。

超純水的制備是一個多步驟、逐*提純的過程，通常以自來水為原水，核心流程如下：

預(yù)處理階段

目的：去除原水中的懸浮物、膠體、余氯、大顆粒雜質(zhì)，保護后續(xù)精密設(shè)備。
- 多介質(zhì)過濾：去除泥沙、鐵銹等大顆粒；
- 活性炭過濾：吸附余氯、部分有機物和異味；
- 軟化過濾：去除鈣鎂離子，防止后續(xù)設(shè)備結(jié)垢。
初*提純階段

核心技術(shù)：反滲透（RO）

反滲透膜的孔徑僅為 0.0001 μm，可截留 99% 以上的離子、有機物、微生物，產(chǎn)出的水稱為 “反滲透水”，電阻率約 0.1–1 MΩ?cm。
深度提純階段

目的：進一步去除反滲透水中殘留的微量離子、有機物等，達到超純水標(biāo)準(zhǔn)。
- 離子交換混床：將陽離子交換樹脂和陰離子交換樹脂混合裝填，深度吸附水中殘留的陰陽離子；
- 電去離子（EDI）：利用電場作用，在離子交換樹脂輔助下，持續(xù)去除水中離子，無需頻繁再生樹脂，是現(xiàn)代超純水制備的主流技術(shù)；
- 紫外光氧化（UV）：波長 185 nm 的紫外光可分解水中的有機污染物，降低 TOC；波長 254 nm 的紫外光可殺滅微生物。
終端精制階段

針對超高純度需求的場景，在用水點前增加終端提純裝置：
- 超濾 / 微濾：去除殘留的微小顆粒物和微生物；
- 終端混床：進一步提升電阻率至 18.2 MΩ?cm。

超純水因幾乎不含雜質(zhì)，避免了雜質(zhì)對實驗、生產(chǎn)的干擾，應(yīng)用于對水質(zhì)要求極高的場景：

實驗室領(lǐng)域
- 精密分析實驗：如**液相色譜（HPLC）、質(zhì)譜分析（MS）、原子吸收光譜（AAS）等，防止雜質(zhì)干擾檢測結(jié)果；
- 生物實驗：細(xì)胞培養(yǎng)、基因測序、蛋白質(zhì)純化等，避免微生物和離子對生物樣本的污染。
電子工業(yè)領(lǐng)域
- 半導(dǎo)體制造：晶圓清洗、芯片蝕刻等工序，水中的微小顆?；螂x子會導(dǎo)致芯片短路或性能下降，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的核心工藝用水；
- 液晶面板、太陽能電池生產(chǎn)：*證產(chǎn)品的純度和穩(wěn)定性。
醫(yī)藥醫(yī)療領(lǐng)域
- 藥品生產(chǎn)：注射劑、無菌制劑的配制，符合藥典標(biāo)準(zhǔn)的超純水是制藥的關(guān)鍵原料；
- 醫(yī)療設(shè)備清洗：如內(nèi)窺鏡、手術(shù)器械的高精度清洗，避免殘留雜質(zhì)引發(fā)感染。
其他領(lǐng)域
- 電池生產(chǎn)：如鋰電池電解液配制，提升電池性能和壽命；
- *端化妝品生產(chǎn)：避免雜質(zhì)影響產(chǎn)品品質(zhì)和穩(wěn)定性。