HPD-2400生產(chǎn)型設(shè)備 次大氣輝光放電處理機(jī)

用途：

1. 酶標(biāo)板、細(xì)菌計數(shù)培養(yǎng)皿、細(xì)胞培養(yǎng)皿、組織培養(yǎng)皿的親水處理。經(jīng)過等離子體處理后細(xì)菌培養(yǎng)皿表面由疏水變?yōu)橛H水,并獲得支持細(xì)胞黏附鋪展的能力.并適用于細(xì)胞培養(yǎng)。等離子表面處理的效果可以簡單地用滴水來驗證，處理過的樣品表面完全被水潤濕。

2. 生物芯片、人造血管、血管支架的處理

3. 等離子清洗、刻蝕、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時去除有機(jī)污染物、油污或油脂。